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　　面对这一行业难题，颇尔中国凭借强大的研发实力，隆重推出四款重磅新品，为半导体制造的关键环节带来革新性的过滤解决方案。新一代1nm WET PTFE 过滤器及 sub 1nm litho HDPE 过滤器重磅上市，相较于上一代产品，它们在不同化学品颗粒去除效率上实现了高达 40% 的飞跃式提升。这不仅确保了超低有机物、金属和颗粒物的析出，更凭借卓越的净化能力，为晶圆生产过程筑牢了极高的纯度防线。与此同时，Gaskleen 1.5nm 过滤器与 UCA CMP 产品也凭借高精度、高通量、高洁净度的卓越特性，为半导体客户打造了更高效的过滤方案，助力客户在严苛的制程挑战中脱颖而出，迈向更高的洁净标准，向着更高的良率目标稳步迈进。

　　北京工厂作为颇尔在中国的战略布局核心，自2003 年亦庄基地奠基以来，一路砥砺奋进，逐步构建起 CMP/GAS 新产品开发、生产、应用以及技术支持的全方位能力，已然成为颇尔服务中国及亚太地区客户的关键力量。在此基础上，颇尔中国精心打造了全球化的供应链网络，以北京的 GAS/CMP 工厂、日本和新加坡的 litho/wet 工厂为三大核心支点，构建起一个稳定可靠的“亚太铁三角”供应链布局。这一布局不仅确保了过滤产品供应的稳定性和可靠性，还能够快速响应亚洲及中国客户的需求。通过这种全球化的供应链体系，颇尔能够为客户提供高质量、高性能的过滤产品，满足其在半导体制造过程中对过滤精度和效率的严格要求，从而助力客户提升在市场中的竞争力。